[发明专利]金属纳米结构及其离子束刻蚀加工方法

摘要

本公开提供了一种使用离子束刻蚀加工金属纳米结构的方法，该方法包括：S1，将待加工样品置于离子束刻蚀设备中，待加工样品自下而上依次包括衬底、金属膜层和光刻胶纳米图形层，光刻胶纳米图形层暴露出金属膜层的刻蚀区；S2，使用离子束刻蚀金属膜层的刻蚀区，刻蚀的时间为第一时长t1；S3，间歇离子束刻蚀，间歇的时间为第二时长t2；S4，重复S2～S3，直至刻蚀深度达到目标厚度；S5，去除光刻胶纳米图形层，得到目标金属纳米结构。本公开的方法能够提高离子束的准直性、降低由于离子束刻蚀所引起的温度升高效应，从而提高刻蚀精度和刻蚀图形的质量。