[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板在审
| 申请号： | 202210987139.4 | 申请日： | 2022-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN115497872A | 公开（公告）日： | 2022-12-20 |
| 发明（设计）人： | 熊子尧;康报虹 | 申请（专利权）人： | 滁州惠科光电科技有限公司;惠科股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/77 | 分类号： | H01L21/77;H01L27/12;G02F1/1362;G02F1/136 |
| 代理公司： | 北京华夏泰和知识产权代理有限公司 11662 | 代理人： | 刘敏 |
| 地址： | 239000 安徽省滁州*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板。该制备方法包括：在衬底基板上依次形成第一金属层、栅绝缘层、半导体层及第二金属层；在第二金属层上涂布光阻层，采用半色调掩膜板对光阻层曝光显影，形成光阻图案；以光阻图案为遮挡对第二金属层进行第一次湿法刻蚀，以形成数据线和与数据线连接的源漏极；通过灰化工艺去除第一部分曝光区域和第二部分曝光区域的光阻，以减薄光阻图案，使剩余的未曝光区域的边缘与第二金属层的边缘对齐；对半导体层进行干法刻蚀，使得数据线在衬底基板上的正投影与对应的半导体层在衬底基板上的正投影基本重合。本申请可以减小数据线对应的半导体层的宽度余量，进而减小其与像素电极或者栅极之间的寄生电容。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制备 方法 显示 面板 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于滁州惠科光电科技有限公司;惠科股份有限公司，未经滁州惠科光电科技有限公司;惠科股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210987139.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
