[发明专利]一种降低碳化硅单晶内部碳包裹体缺陷密度的方法在审

专利信息
申请号: 202210936589.0 申请日: 2022-08-05
公开(公告)号: CN115261991A 公开(公告)日: 2022-11-01
发明(设计)人: 张小刚;王胜亚;于文明 申请(专利权)人: 江苏芯恒惟业电子科技有限公司
主分类号: C30B29/36 分类号: C30B29/36;C30B23/00
代理公司: 上海得民颂知识产权代理有限公司 31379 代理人: 傅云
地址: 215335 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明涉及一种降低碳化硅单晶内部碳包裹体缺陷密度的方法,属于碳化硅单晶制备技术领域,包括以下步骤:制备碳化钽和五氧化二钽的颗粒混合物、烧结、除残、隔离、制备碳化硅单晶。本发明采用耐腐蚀、熔点高、孔隙均匀的钽多孔块体替代了粉料区域上部呈分散状的碳化硅粉料,钽多孔块体孔隙的孔径为0.1‑50μm,不仅可以有效阻止粉料中的残余碳随气流的上升,还可以保证Si(g)、Si2C(g)、SiC2(g)等组分的自由通过,从而降低碳化硅单晶中的碳包裹体缺陷密度,有利于实现高质量碳化硅单晶的生长。
搜索关键词: 一种 降低 碳化硅 内部 包裹 缺陷 密度 方法
【主权项】:
暂无信息
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