[发明专利]一种sheet掩膜版的制作方法在审

专利信息
申请号: 202210586324.2 申请日: 2022-05-27
公开(公告)号: CN115161591A 公开(公告)日: 2022-10-11
发明(设计)人: 刘鑫;李博;赵阳;吴义超;杨凡;李哲 申请(专利权)人: 成都拓维高科光电科技有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56
代理公司: 成都蓉创智汇知识产权代理有限公司 51276 代理人: 谭新民
地址: 610000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 本申请公开了一种sheet掩膜版的制作方法,包括以下步骤:S1:取厚度为h0的基材,金属基材的A面为上表面,B面为下表面;S2:在基材上涂覆光阻膜,曝光,显影,蚀刻后形成基板,基板包括有效区和将有效区包围在内的辅助区,有效区与辅助区之间设有焊接区,有效区为由横向骨架和纵向骨架形成的镂空的网格状;S3:对S2形成的基板减薄处理。本申请方法制成的掩膜版张网焊接时用较小的拉力可以使sheet整平,使得F‑mask本体不易发生变形,从而提高了蒸镀质量的稳定性。
搜索关键词: 一种 sheet 掩膜版 制作方法
【主权项】:
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