[发明专利]一种sheet掩膜版的制作方法

说明书

本申请公开了一种sheet掩膜版的制作方法，包括以下步骤：S1:取厚度为h0的基材,金属基材的A面为上表面，B面为下表面；S2:在基材上涂覆光阻膜，曝光，显影，蚀刻后形成基板，基板包括有效区和将有效区包围在内的辅助区，有效区与辅助区之间设有焊接区，有效区为由横向骨架和纵向骨架形成的镂空的网格状；S3:对S2形成的基板减薄处理。本申请方法制成的掩膜版张网焊接时用较小的拉力可以使sheet整平，使得F‑mask本体不易发生变形，从而提高了蒸镀质量的稳定性。

技术领域

本申请涉及蒸镀领域，特别涉及一种sheet掩膜版的制作方法及一种F-mask掩膜版的制作方法。

背景技术

有机电致发光器件(OLED)由于具有亮度高、色彩饱和、轻薄、可弯曲等优点在显示面板领域占比逐渐增大。

OLED或AMOLED制程工艺中，蒸镀为决定OLED或AMOLED性能关键的工艺之一，与蒸镀系统配合的掩膜版(Mask)是决定蒸镀系统性能的关键，FMM的主要作用是在OLED生产过程中沉积RGB有机物质并形成像素，准确和精细地沉淀有机物质，提高分辨率和良率。FMM的开孔直接决定OLED显示屏的像素高低，开孔越小，像素越高。

FMM在使用过程中，由于重力和受热膨胀的原因，会有500μm的下垂量，下垂量越大，造成的混色的比例和风险越大，分辨率越高，影响越严重。在实际生产过程中，为了减少下垂量，采用F-mask(由Frame和sheet组成)来支撑FMM。由于F-mask刚度大，下垂量比FMM小，约为200μm。F-mask的使用在一定程度上减少了FMM的下垂量，降低了混色的比例和影响程度。但是现有的F-mask使用后蒸镀质量的稳定性较差。

上述背景技术是为了便于理解本发明，并非是申请本发明之前已向普通公众公开的公知技术。

发明内容

基于上述问题，本申请提供一种sheet掩膜版的制作方法，该方法制作的掩膜版张网焊接时用较小的拉力可以使sheet整平，使得F-mask本体不易发生变形，从而提高了蒸镀质量的稳定性。

一种sheet掩膜版的制作方法，包括以下步骤：

S1:取厚度为h0的基材,金属基材的A面为上表面，B面为下表面；S2:在基材上涂覆光阻膜，曝光，显影，蚀刻后形成基板，基板包括有效区和将有效区包围在内的辅助区，有效区与辅助区之间设有焊接区，有效区为由横向骨架和纵向骨架形成的镂空的网格状；

S3:对S2形成的基板减薄处理。

可选地，所述S3中，基板减薄处理为A面减薄处理或/和B面减薄处理。

可选地，所述减薄处理幅度30％。

可选地，所述S3中，基板减薄处理为辅助区处理。

可选地，所述sheet掩膜版的制作方法还包括以下步骤：

S4:有效区的横向骨架及纵向骨架减宽处理。

可选地，所述减宽为由中心向两边宽度逐渐变窄。

可选地，所述sheet掩膜版的制作方法还包括以下步骤：

S4:辅助区的A面或/和B面蚀刻图案。

可选地，所述图案的长度由中间向四角逐渐变短。

可选地，所述sheet掩膜版的制作方法还包括以下步骤：

S4:有效区的横向骨架及纵向骨架减宽处理，辅助区的A面或/和B面蚀刻图案。

可选地，所述减宽为由中心向两边宽度逐渐变窄；图案的长度由中间向四角逐渐变短。