[发明专利]一种sheet掩膜版的制作方法

权利要求书

1.一种sheet掩膜版的制作方法，包括以下步骤：

S1:取厚度为h0的基材,金属基材的A面为上表面，B面为下表面；

S2:在基材上涂覆光阻膜，曝光，显影，蚀刻后形成基板(1)，基板(1)包括有效区(2)和将有效区(2)包围在内的辅助区(3)，有效区(2)与辅助区(3)之间设有焊接区(6)，有效区(2)为由横向骨架(4)和纵向骨架(5)形成的镂空的网格状；

S3:对S2形成的基板(1)减薄处理。

2.根据权利要求1所述的sheet掩膜版的制作方法，其特征在于，所述S3中，基板(1)减薄处理为A面减薄处理或/和B面减薄处理；优选所述减薄处理幅度30％。

3.根据权利要求2所述的sheet掩膜版的制作方法，其特征在于，所述S3中，基板(1)减薄处理为辅助区(3)处理。

4.根据权利要求1-3任一所述的sheet掩膜版的制作方法，其特征在于，所述sheet掩膜版的制作方法还包括以下步骤：

S4:有效区(2)的横向骨架(4)及纵向骨架(5)减宽处理；优选所述减宽为由中心向两边宽度逐渐变窄。

5.根据权利要求1-3任一所述的sheet掩膜版的制作方法，其特征在于，所述sheet掩膜版的制作方法还包括以下步骤：

S4:辅助区(3)的A面或/和B面蚀刻图案；优选图案的长度由中间向四角逐渐变短。

6.根据权利要求1-3任一所述的sheet掩膜版的制作方法，其特征在于，所述sheet掩膜版的制作方法还包括以下步骤：

S4:有效区(2)的横向骨架(4)及纵向骨架(5)减宽处理，辅助区(3)的A面或/和B面蚀刻图案，优选所述减宽为由中心向两边宽度逐渐变窄；优选图案的长度由中间向四角逐渐变短。

7.根据权利要求1-6任一所述的sheet掩膜版的制作方法，其特征在于，该sheet掩膜版的制作方法制作的sheet掩膜版包括基板(1)，该基板(1)包括有效区(2)和将有效区(2)包围在内的辅助区(3)，有效区(2)与辅助区(3)之间设有焊接区(6)，有效区(2)为由横向骨架(4)和纵向骨架(5)形成的镂空的网格状，所述横向骨架(4)，其厚度0.7h0，且h0；纵向骨架(5)，其厚度0.7h0，且h0。

8.根据权利要求7所述的sheet掩膜版的制作方法，其特征在于，所述横向骨架(4)宽度沿sheet掩膜版横向中心线向外渐次减少，纵向骨架(5)宽度沿sheet掩膜版纵向中心线向外渐次减少。

9.根据8所述的sheet掩膜版的制作方法，其特征在于，所述辅助区(3)的上表面上刻蚀刻有若干第一凹槽(8)，第一凹槽(8)包括横向的第一凹槽(8)和纵向的第一凹槽(8)，横向的第一凹槽(8)的长度沿sheet掩膜版横向中心线向外渐次减少，纵向的第一凹槽(8)的长度沿sheet掩膜版纵向中心线向外渐次减少；所述辅助区(3)的下表面蚀刻有若干第二凹槽(9)，第二凹槽(9)与第一凹槽(8)交错排列，第二凹槽(9)包括横向的第二凹槽(9)和纵向的第二凹槽(9)，横向的第二凹槽(9)的长度沿sheet掩膜版横向中心线向外渐次减少，纵向的第二凹槽(9)的长度沿sheet掩膜版纵向中心线向外渐次减少。

10.一种F-mask掩膜版的制作方法，包括以下步骤：将权利要求1-9任一所述的sheet掩膜版的制作方法制作的sheet掩膜版张网到Frame框(7)。