[发明专利]一种铜蚀刻液组合物及其使用方法在审

专利信息
申请号: 202210526738.6 申请日: 2022-05-16
公开(公告)号: CN114855169A 公开(公告)日: 2022-08-05
发明(设计)人: 邵振;石玉国 申请(专利权)人: 江苏和达电子科技有限公司
主分类号: C23F1/18 分类号: C23F1/18;C23F1/44
代理公司: 上海新泊利知识产权代理事务所(普通合伙) 31435 代理人: 王晶
地址: 212212 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种铜蚀刻液组合物及其使用方法。本发明的铜蚀刻液按重量百分比包括10~20%的双氧水尿素,2~10%的无机酸,1~12%的有机酸,1~8%的无机盐,10~30%的调节剂以及余量水。本发明的铜蚀刻液具有较高的铜离子负载能力、较好的储存稳定性以及较长的使用寿命的,其蚀刻铜/钼膜层面板后,表面无金属残留、具有较佳的CD‑loss值、较佳的锥角、以及较小的EDP值,能够实现较好的蚀刻效果。
搜索关键词: 一种 蚀刻 组合 及其 使用方法
【主权项】:
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