[发明专利]一种铜蚀刻液组合物及其使用方法在审
| 申请号: | 202210526738.6 | 申请日: | 2022-05-16 |
| 公开(公告)号: | CN114855169A | 公开(公告)日: | 2022-08-05 |
| 发明(设计)人: | 邵振;石玉国 | 申请(专利权)人: | 江苏和达电子科技有限公司 |
| 主分类号: | C23F1/18 | 分类号: | C23F1/18;C23F1/44 |
| 代理公司: | 上海新泊利知识产权代理事务所(普通合伙) 31435 | 代理人: | 王晶 |
| 地址: | 212212 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 蚀刻 组合 及其 使用方法 | ||
1.一种铜蚀刻液,其特征在于,所述铜蚀刻液按重量百分比包括以下组分:10~20%的双氧水尿素,2~10%的无机酸,1~12%的有机酸,1~8%的无机盐,10~30%的调节剂以及余量水。
2.根据权利要求1所述的一种铜蚀刻液,其特征在于,所述无机酸选自硝酸、硫酸、雷酸、氢硫酸、氯磺酸、碳酸、硅酸、次氯酸中的一种或至少两种的组合。
3.根据权利要求1所述的一种铜蚀刻液,其特征在于,所述无机盐选自氯化铁、氯化铜中的一种或至少两种的组合。
4.根据权利要求1所述的一种铜蚀刻液,其特征在于,所述有机酸选自乙酸、丙酸、丁二酸、苹果酸、柠檬酸、肉桂酸、草酸、甘氨酸、苯甲酸、对甲基苯甲酸、邻甲基苯甲酸、对氨基苯甲酸、邻氨基苯甲酸中的一种或至少两种的组合。
5.根据权利要求1所述的一种铜蚀刻液,其特征在于,所述调节剂选自对苯二胺、间苯二胺、三乙醇胺、三乙胺、甲基苯磺酸、乙二胺四乙酸、苯基脲、N-异丙基苄胺、丙二醇、二异丙胺中的一种或至少两种的组合。
6.根据权利要求5所述的一种铜蚀刻液,其特征在于,所述调节剂为由对苯二胺、三乙醇胺、乙二胺四乙酸、甲基磺酸以及苯基脲组成的混合物。
7.根据权利要求6所述的一种铜蚀刻液,其特征在于,所述对苯二胺、三乙醇胺、乙二胺四乙酸、甲基磺酸以及苯基脲的重量比为(3~5):(18~22):(18~22):(28~32):(33~37):(23~27)。
8.根据权利要求6所述的一种铜蚀刻液,其特征在于,所述调节剂在所述铜蚀刻液中的重量百分比为13~28%。
9.根据权利要求1所述的一种铜蚀刻液,其特征在于,按重量百分比计,所述铜蚀刻液包括以下组分:13~18%的所述双氧水尿素,4~8%的所述无机酸,2~4%的所述有机酸,1~3%的所述无机盐,10~30%的所述调节剂以及余量水。
10.一种权利要求1~9任一项所述铜蚀刻液的制备方法,其特征在于,将所述双氧水尿素、所述无机盐、所述有机酸、所述调节剂与水在不超过50℃的温度下混合搅拌,经过滤合格后得到铜蚀刻液。
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