[发明专利]半导体量子比特版图的布图构建方法、系统、介质及设备在审
| 申请号： | 202210462998.1 | 申请日： | 2022-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN114997096A | 公开（公告）日： | 2022-09-02 |
| 发明（设计）人： | 李舒啸;张宇;张钧云 | 申请（专利权）人： | 本源科仪（成都）科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/392 | 分类号： | G06F30/392;G06F30/398;G06N10/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610000 四川省成都市中国(四川)自由贸易试验区*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种半导体量子比特版图的布图构建方法、系统、介质及设备。布图构建方法包括：获取半导体量子比特的电极结构层和位于电极结构层外围的多个离子注入层，电极结构层中具有多个第一电极和多个第二电极，第一电极和所述离子注入层的数量相等；在电极结构层和多个离子注入层之间确定第一限位框，以及在多个离子注入层外围确定第二限位框；在第一限位框上生成多个对应每一第一电极的第一导电盘以及多个对应每一第二电极的第二导电盘；在第二限位框上生成多个对应每一第一导电盘的第一焊盘以及多个对应每一第二导电盘的第二焊盘。通过上述方式，本发明能够自动绘制导电盘和焊盘，可以提高版图绘制的效率和精准度。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 量子 比特 版图 构建 方法 系统 介质 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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