[发明专利]对准装置、成膜装置以及调整方法有效
| 申请号： | 202210076764.3 | 申请日： | 2022-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN114807841B | 公开（公告）日： | 2023-09-12 |
| 发明（设计）人： | 谷和宪;长沼义人 | 申请（专利权）人： | 佳能特机株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54;C23C14/52;C23C14/50;H10K71/00;H10K59/12 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 刘杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供通过校正基板与掩模的对准时的位置偏移来提高对准精度的对准装置、成膜装置以及调整方法。该对准装置具备：对准部件，在沿着基板的被成膜面的平面中，进行基板与掩模的相对位置调整；移动部件，在与平面交叉的交叉方向上，使基板相对于掩模的相对的高度变化；以及测定部件，获取平面中的基板的位置信息，在基板位于基板整体与掩模分离的第一高度的状态下，测定部件进行测定而获取第一位置信息，在基板位于与第一高度不同且基板的至少一部分与掩模分离的第二高度的状态下，测定部件进行测定而获取第二位置信息。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 装置 以及 调整 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能特机株式会社，未经佳能特机株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210076764.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：二次电池
- 下一篇：一种胎压传感器及其加工方法
- 同类专利
- 专利分类
