[发明专利]对准装置、成膜装置以及调整方法

权利要求书

1.一种对准装置，该对准装置具备：

对准部件，在沿着基板的被成膜面的平面中，进行所述基板与掩模的相对位置调整；

移动部件，在与所述平面交叉的交叉方向上，使所述基板相对于所述掩模的相对的高度变化；

测定部件，获取所述平面中的所述基板的位置信息；以及

控制部件，

其特征在于，

在所述基板位于所述基板整体与所述掩模分离的第一高度的状态下，所述测定部件进行测定而获取第一位置信息，

在所述基板位于与所述第一高度不同且所述基板的至少一部分与所述掩模分离的第二高度的状态下，所述测定部件进行测定而获取第二位置信息，

所述控制部件使用所述第一位置信息以及所述第二位置信息，计算用于所述相对位置调整的校正量，

在对所述基板进行成膜时，所述移动部件使所述基板移动到与所述第一高度及所述第二高度不同的第三高度，

所述控制部件基于所述第一位置信息以及所述第二位置信息，计算用于对偏移量进行补偿的所述校正量，该偏移量是在所述基板从进行所述相对位置调整时的所述基板的高度移动至所述第三高度的期间产生的所述平面中的所述基板与所述掩模的相对位置的偏移量。

2.根据权利要求1所述的对准装置，其特征在于，

所述控制部件基于所述第一位置信息和所述第二位置信息，计算用于对偏移量进行补偿的所述校正量，该偏移量是在所述基板从所述第一高度向所述第二高度移动的期间引起的所述平面中的所述基板与所述掩模的相对位置的偏移量。

3.一种对准装置，该对准装置具备：

对准部件，在沿着基板的被成膜面的平面中，进行所述基板与掩模的相对位置调整；

移动部件，在与所述平面交叉的交叉方向上，使所述基板相对于所述掩模的相对的高度变化；

测定部件，获取所述平面中的所述基板的位置信息；以及

控制部件，

其特征在于，

在所述基板位于所述基板整体与所述掩模分离的第一高度的状态下，所述测定部件进行测定而获取第一位置信息，

在所述基板位于与所述第一高度不同且所述基板的至少一部分与所述掩模分离的第二高度的状态下，所述测定部件进行测定而获取第二位置信息，

所述控制部件使用所述第一位置信息以及所述第二位置信息，计算用于所述相对位置调整的校正量，

该对准装置具备多个所述测定部件，

所述控制部件针对多个所述测定部件中的每一个测定部件计算所述校正量，

所述控制部件使用由多个所述测定部件测定出的多个所述第一位置信息来计算所述第一高度处的所述基板的重心位置，并且使用由多个所述测定部件测定出的多个所述第二位置信息来计算所述第二高度处的所述基板的重心位置，基于所述第一高度和所述第二高度各自的所述重心位置的变化来计算所述校正量。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的对准装置，其特征在于，

所述第一高度是进行所述相对位置调整时的所述基板的高度。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的对准装置，其特征在于，

所述第二高度是比所述第一高度接近所述掩模的高度。

6.根据权利要求1～3中任一项所述的对准装置，其特征在于，

所述第二高度是所述基板的整体与所述掩模分离的高度。

7.根据权利要求1～3中任一项所述的对准装置，其特征在于，

所述测定部件通过测定设置于所述基板的基板对准标记的位置，获取所述位置信息。

8.根据权利要求7所述的对准装置，其特征在于，

所述测定部件获取所述基板对准标记的位置信息和设置在所述掩模上的掩模对准标记的位置信息，

在所述相对位置调整中，所述对准部件基于所述基板对准标记的位置信息和所述掩模对准标记的位置信息，使所述基板与所述掩模成为规定的位置关系。