[发明专利]对准装置、成膜装置以及调整方法

说明书

本发明提供通过校正基板与掩模的对准时的位置偏移来提高对准精度的对准装置、成膜装置以及调整方法。该对准装置具备：对准部件，在沿着基板的被成膜面的平面中，进行基板与掩模的相对位置调整；移动部件，在与平面交叉的交叉方向上，使基板相对于掩模的相对的高度变化；以及测定部件，获取平面中的基板的位置信息，在基板位于基板整体与掩模分离的第一高度的状态下，测定部件进行测定而获取第一位置信息，在基板位于与第一高度不同且基板的至少一部分与掩模分离的第二高度的状态下，测定部件进行测定而获取第二位置信息。

技术领域

本发明涉及对准装置、成膜装置以及调整方法。

背景技术

具备有机EL显示器、液晶显示器等面板显示器的显示装置被广泛应用。其中，具备有机EL显示器的有机EL显示装置的响应速度、视场角、薄型化等特性优异，适合于监视器、电视机、智能手机等。

在专利文献1所记载的面板显示器的制造工序中，在将基板和掩模搬入成膜装置内并由支承部件支承之后，在使基板与掩模的面平行的状态下进行基板与掩模的平面内的对准(位置对合)。在对准时，从照相机隔着基板拍摄掩模而得到的图像中检测分别设置于基板以及掩模的对准标记，基于基板与掩模的对准标记彼此的位置关系，基板或者掩模在平面内进行XY移动以及θ旋转。

在平面内进行了对准之后，基板的支承部件或者掩模的支承部件在与基板以及掩模的面垂直的方向上进行Z移动，从而基板与掩模的相对距离逐渐接近。并且，当基板与掩模贴紧时，隔着掩模使成膜材料在基板上成膜。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2020-105629号公报

在面板显示器的制造工序中，有时在成膜装置内发生基板与掩模的位置偏移，使对准精度降低。在专利文献1中，列举了在对准完成后使基板与掩模贴紧时产生的、机械/物理动作引起的位置偏移。在专利文献1中，为了校正该位置偏移，通过贴紧后的照相机拍摄来拍摄基板和掩模的对准标记，基于它们的位置偏移量计算并存储偏离量。并且，通过将所存储的偏离量反映在对准工序中，从而抑制了因位置偏移而导致的对准精度的降低。

在专利文献1中，如上所述，基于基板与掩模贴紧后的对准标记的位置偏移量来计算偏离量。但是，对于基板与掩模贴紧时的位置偏移的产生的因素的研究不充分，要求进一步提高对准精度。

发明内容

本发明是鉴于上述课题而完成的，其目的在于提高基板与掩模的对准精度。

用于解决课题的方案

本发明采用以下的结构。即，

一种对准装置，该对准装置具备：

对准部件，在沿着基板的被成膜面的平面中，进行所述基板与掩模的相对位置调整；

移动部件，在与所述平面交叉的交叉方向上，使所述基板相对于所述掩模的相对的高度变化；以及

测定部件，获取所述平面中的所述基板的位置信息，

其特征在于，

在所述基板位于所述基板整体与所述掩模分离的第一高度的状态下，所述测定部件进行测定而获取第一位置信息，

在所述基板位于与所述第一高度不同且所述基板的至少一部分与所述掩模分离的第二高度的状态下，所述测定部件进行测定而获取第二位置信息。

发明的效果

根据本发明，能够提高对准精度。

附图说明

图1是包含成膜装置的电子器件的生产线的示意图。

图2是表示成膜装置的结构的剖视图。