[实用新型]一种瞬态抑制二极管有效

专利信息
申请号: 202122664527.2 申请日: 2021-11-02
公开(公告)号: CN216648323U 公开(公告)日: 2022-05-31
发明(设计)人: 李晓锋;招景丰 申请(专利权)人: 浙江里阳半导体有限公司
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L29/06;H01L23/29;H01L23/31
代理公司: 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 代理人: 郭燕;彭家恩
地址: 317600 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 一种瞬态抑制二极管,包括:基材,基材为N型基材;形成在基材正面的N型重掺杂层;形成在基材的背面的第一区域上的P型轻掺杂层;形成在基材的背面除第一区域以外的第二区域上的P型重掺杂层;形成在基材正面的沟槽,沟槽与第一区域对应,且P型轻掺杂层暴露于沟槽;形成在沟槽上的钝化层。可见,由于P型重掺杂层的掺杂浓度高,P型轻掺杂层的掺杂浓度低,因此,P型重掺杂层与N型基材的交界形成的P+/N结的击穿电压低于P型轻掺杂层与N型基材的交界形成的P‑/N结。因此,在高电压冲击上述瞬态抑制二极管时,首先在P+/N结处击穿,也就是说,P‑/N结承受的电压较小,钝化层在不使用传统的铅系玻璃钝化的情况下,也可满足P‑/N结需要的钝化保护要求。
搜索关键词: 一种 瞬态 抑制 二极管
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