[实用新型]外延片承载装置和化学气相沉积设备有效

专利信息
申请号: 202122182922.7 申请日: 2021-09-09
公开(公告)号: CN215757732U 公开(公告)日: 2022-02-08
发明(设计)人: 程凯;刘凯 申请(专利权)人: 苏州晶湛半导体有限公司
主分类号: C30B25/12 分类号: C30B25/12;C30B25/10;C30B25/16;H01L21/683;C30B28/14
代理公司: 北京布瑞知识产权代理有限公司 11505 代理人: 秦卫中
地址: 215123 江苏省苏州市苏州工*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供了一种外延片承载装置和化学气相沉积设备,涉及气相沉积领域。该外延片承载装置包括位于衬底和加热部件之间的石墨盘以及与石墨盘可拆卸连接的高度调整部件,其中,上述石墨盘用于承载衬底,上述高度调整部件用于调整衬底相对于加热部件的放置角度。本实用新型实施例通过设置与石墨盘可拆卸连接的高度调整部件,实现了利用高度调整部件调整衬底相对于加热部件的放置角度的目的,消除了衬底底面与加热部件顶面之间的角度偏差,使衬底底面与加热部件顶面平行,进而使衬底不同区域的受热程度相同,提高了衬底不同区域温度的均匀性,进而提高了衬底上所生长的外延片的质量。
搜索关键词: 外延 承载 装置 化学 沉积 设备
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州晶湛半导体有限公司,未经苏州晶湛半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202122182922.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top