[实用新型]外延片承载装置和化学气相沉积设备有效
| 申请号： | 202122182922.7 | 申请日： | 2021-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN215757732U | 公开（公告）日： | 2022-02-08 |
| 发明（设计）人： | 程凯;刘凯 | 申请（专利权）人： | 苏州晶湛半导体有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/12 | 分类号： | C30B25/12;C30B25/10;C30B25/16;H01L21/683;C30B28/14 |
| 代理公司： | 北京布瑞知识产权代理有限公司 11505 | 代理人： | 秦卫中 |
| 地址： | 215123 江苏省苏州市苏州工*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 外延 承载 装置 化学 沉积 设备 | ||
1.一种外延片承载装置，其特征在于，包括：
位于衬底和加热部件之间的石墨盘，所述石墨盘用于承载所述衬底；
与所述石墨盘可拆卸连接的高度调整部件，所述高度调整部件用于调整所述衬底相对于所述加热部件的放置角度。
2.根据权利要求1所述的外延片承载装置，其特征在于，所述高度调整部件位于所述石墨盘的边缘预设范围。
3.根据权利要求1所述的外延片承载装置，其特征在于，所述高度调整部件的数量为多个，多个所述高度调整部件围绕所述石墨盘的中心轴呈均匀圆周分布。
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的外延片承载装置，其特征在于，所述高度调整部件包括支撑单元，所述支撑单元用于支撑所述衬底。
5.根据权利要求4所述的外延片承载装置，其特征在于，所述高度调整部件还包括稳固单元，所述稳固单元设置于所述支撑单元远离所述加热部件的一端，所述稳固单元用于增大所述衬底与所述高度调整部件之间的接触面积。
6.根据权利要求5所述的外延片承载装置，其特征在于，所述稳固单元与所述衬底相邻的表面平行于所述加热部件靠近所述石墨盘的表面。
7.根据权利要求4所述的外延片承载装置，其特征在于，所述石墨盘与所述衬底相邻的表面设置有与所述高度调整部件适配的凹槽，所述支撑单元部分位于所述凹槽内。
8.根据权利要求7所述的外延片承载装置，其特征在于，所述高度调整部件的数量为多个，所述凹槽的数量亦为多个，多个所述高度调整部件和多个所述凹槽呈一一对应关系，所述多个凹槽的深度不同，并且，多个所述凹槽各自对应的高度调整部件的高度相同。
9.根据权利要求7所述的外延片承载装置，其特征在于，所述高度调整部件的数量为多个，所述凹槽的数量亦为多个，多个所述高度调整部件和多个所述凹槽呈一一对应关系，多个所述凹槽各自对应的高度调整部件的高度不同，并且，所述多个凹槽的深度相同。
10.一种化学气相沉积设备，其特征在于，包括反应腔室，所述反应腔室内装载有上述权利要求1至9中的任一项所述的外延片承载装置。
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