[发明专利]晶体管单元及其阵列、集成电路在审

专利信息
申请号: 202111602790.7 申请日: 2021-12-24
公开(公告)号: CN116344530A 公开(公告)日: 2023-06-27
发明(设计)人: 王宇哲;李新 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/088;H01L23/528
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 高天华;张颖玲
地址: 230601 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 本公开实施例公开了一种晶体管单元及其阵列、集成电路。其中,晶体管单元包括:衬底;N条栅极,均位于衬底上;N条栅极在衬底表面的投影形成封闭的形状;N为大于2的正整数;第一源区;位于衬底中,且第一源区在衬底表面的投影位于封闭的形状中;第一源区被N条栅极共用;N个漏区;位于衬底中,且N个漏区中的每个漏区均和源区分居N条栅极中相应栅极的两侧;多个第一源端导电插栓,位于第一源区上,并与第一源区电接触;每个漏区设置有多个漏端导电插栓,且多个漏端导电插栓与漏区电接触;第一源端金属层,位于第一源端导电插栓上,并与所有的第一源端导电插栓电接触;漏端金属层,位于漏端导电插栓上,并与所有的漏端导电插栓电接触。
搜索关键词: 晶体管 单元 及其 阵列 集成电路
【主权项】:
暂无信息
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