[发明专利]具有用于结控制的掺杂控制层的鳍式晶体管在审
申请号: | 202111559080.0 | 申请日: | 2021-12-20 |
公开(公告)号: | CN114649401A | 公开(公告)日: | 2022-06-21 |
发明(设计)人: | M·梅赫罗特拉 | 申请(专利权)人: | 德克萨斯仪器股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L29/10;H01L29/78;H01L21/336 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 徐东升 |
地址: | 美国德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请题为“具有用于结控制的掺杂控制层的鳍式晶体管”。在所描述的示例中,一种集成电路(100)包括半导体材料的衬底(106)、源极区(1704)、栅极区(1400)、漏极区(1902)和形成在衬底(106)上的鳍式结构(102、104)。鳍式结构(102、104)包括栅极区(1400)、源极区(1704)以及在栅极区(1400)和漏极区(1902)之间的漂移区。掺杂控制层(108、122、124)在漂移区上方沿着鳍式结构(102、104)的至少一个侧壁形成。 | ||
搜索关键词: | 具有 用于 控制 掺杂 晶体管 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于德克萨斯仪器股份有限公司,未经德克萨斯仪器股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111559080.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于椭圆形原子对象阱的装置、系统和方法
- 下一篇:用于垃圾收集的有效数据标识
- 同类专利
- 专利分类