[发明专利]一种导电膜的制备方法以及导电膜在审
| 申请号： | 202111544502.7 | 申请日： | 2021-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN114005604A | 公开（公告）日： | 2022-02-01 |
| 发明（设计）人： | 穆希;李西军 | 申请（专利权）人： | 西湖大学 |
| 主分类号： | H01B13/00 | 分类号： | H01B13/00;H01B5/14 |
| 代理公司： | 北京金信知识产权代理有限公司 11225 | 代理人： | 范继晨 |
| 地址： | 310024 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本公开实施例提供一种导电膜的制备方法以及导电膜，所述制备方法包括：清洗所述衬底层；将所述衬底层传输至镀膜腔室中进行镀膜，通过镀膜依次形成平坦层、梯度种子层、金属层、蛛网层、种子层以及调色层，在形成所述梯度种子层的过程中采用梯度沉积方式。本公开实施例通过设置梯度过度的膜层，从而改善复合膜层的应力，生长缺陷，尤其是膜层的粗糙度，还能为进一步核心功能层的沉积打好基础，有助于作为核心层的金属层趋近于层状生长，同时实现同等膜厚的情况下电阻率最低，粗糙度最小。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 导电 制备 方法 以及 | ||
【主权项】：
暂无信息
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