[发明专利]一种氮化物异质结器件及其制备方法在审
申请号: | 202111521811.2 | 申请日: | 2021-12-13 |
公开(公告)号: | CN114242781A | 公开(公告)日: | 2022-03-25 |
发明(设计)人: | 刘胜厚;蔡文必;刘波亭;孙希国 | 申请(专利权)人: | 厦门市三安集成电路有限公司 |
主分类号: | H01L29/20 | 分类号: | H01L29/20;H01L21/335;H01L29/778;H01L21/02 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 崔熠 |
地址: | 361100 福建省厦门*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本申请提供一种氮化物异质结器件及其制备方法,涉及半导体技术领域,方法包括:提供硅衬底,硅衬底的表面为(100)晶面;湿法腐蚀硅衬底表面形成凹槽,凹槽的表面为(111)晶面;在凹槽内的(111)晶面上外延生长覆盖凹槽的平坦层,由于凹槽表面为(111)晶面,因此,覆盖于凹槽的平坦层能够与硅衬底表面进行良好的晶格适配,从而获得高质量的平坦层。平坦层覆盖凹槽且与硅衬底的底面平行,便于获得一个顶面较为平坦的衬底结构。接着,继续在平坦层顶面外延生长氮化物异质结,由于氮化物异质结能够与平坦层形成较好的晶格匹配,就可以获得高质量的氮化物异质结,同时,由于平坦层顶面较为平整,能够进一步的提高氮化物异质结的质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 氮化物 异质结 器件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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