[发明专利]一种半导体加工用蒸发台的自清洁装置有效
| 申请号： | 202111466085.9 | 申请日： | 2021-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN114150272B | 公开（公告）日： | 2022-08-23 |
| 发明（设计）人： | 胡长文;陈金凌;王锡胜;李敏 | 申请（专利权）人： | 江苏威森美微电子有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 盐城博思维知识产权代理事务所(普通合伙) 32485 | 代理人： | 邢腾 |
| 地址： | 224500 江苏省盐*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于半导体加工技术领域，具体的说是一种半导体加工用蒸发台的自清洁装置，包括蒸发台本体、移动结构、安装底架、升降气缸、电动基座、竖梁架、清扫结构和除尘结构，所述蒸发台本体的外侧设置有移动结构，所述移动结构的一端安装有安装底架，所述安装底架的端面中央安装有升降气缸，所述升降气缸的顶部上方设置有电动基座，所述电动基座的顶部端面中央固定安装有竖梁架；通过移动结构在移动的过程中，使得升降气缸和电动基座能够调节竖梁架的高度和转动角度，使得清扫结构和除尘结构的位置发生调节，使得清扫结构和除尘结构能够将蒸发台本体顶部的不同位置进行清洁除尘，有效避免残留清洁死角的问题，具有良好的自清洁效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 工用 蒸发 清洁 装置 | ||
【主权项】：
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