[发明专利]一种三维图形对准系统及方法在审

专利信息
申请号: 202111458525.6 申请日: 2021-12-01
公开(公告)号: CN116203809A 公开(公告)日: 2023-06-02
发明(设计)人: 韩道;骆志军;姜瑾;孙文娟;吕威 申请(专利权)人: 武汉光电工业技术研究院有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00
代理公司: 武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙) 42231 代理人: 李平丽
地址: 430075 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种三维图形对准系统及方法,涉及激光技术领域,提供一种三维图形对准系统,所述位移台上设置有晶圆,所述晶圆上制作有对位标记以及套刻检测用图形;所述CCD相机、所述第一双色镜、所述第二双色镜、所述第三空间光调制器、所述物镜和所述位移台依次设置于同一直线光路上,所述第一双色镜和所述第二双色镜以预设角度设置,用于分别接收来自所述第一激光单元的所述第一光束和所述第二激光单元的所述第二光束。本发明将对准检测技术中套刻检测方法通过空间光调制器投图和CCD相机采集图片,用于对位标记精度的检测和修正。
搜索关键词: 一种 三维 图形 对准 系统 方法
【主权项】:
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