[发明专利]一种基于CCD反射成像法的激光测量系统及其方法在审

专利信息
申请号: 202111447418.3 申请日: 2021-11-30
公开(公告)号: CN114235149A 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 何枫;程乙轮;谭逢富;秦来安;侯再红;黄志刚;王浩 申请(专利权)人: 中国科学院合肥物质科学研究院
主分类号: G01J1/38 分类号: G01J1/38;G01J1/42;G06T5/00
代理公司: 合肥市上嘉专利代理事务所(普通合伙) 34125 代理人: 郭华俊
地址: 230031 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明属于CCD反射成像法的激光参数测量系统技术领域,尤其涉及一种基于CCD反射成像法的激光测量系统及其方法。所述系统包括图像采集单元、信标单元、漫反射屏和数据处理单元;所述图像采集单元通过支架与所述漫反射屏连接;所述信标单元固定在所述漫反射屏上;所述数据处理单元与所述图像采集单元连接,用于对图像进行畸变校正处理。通过本发明只需进行一次标定工作,有效的解决了传统的基于CCD反射成像法测试系统中每次都需重新标定的过程。
搜索关键词: 一种 基于 ccd 反射 成像 激光 测量 系统 及其 方法
【主权项】:
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