[发明专利]沟槽侧壁的表面掺杂方法及半导体器件在审
| 申请号： | 202111388116.3 | 申请日： | 2021-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN114141693A | 公开（公告）日： | 2022-03-04 |
| 发明（设计）人： | 夏志平;田浩洋;陈洪雷;孙样慧;温建功 | 申请（专利权）人： | 杭州士兰集成电路有限公司;杭州士兰集昕微电子有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/762 | 分类号： | H01L21/762;H01L29/06 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 耿苑 |
| 地址： | 310018 浙江省杭州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种沟槽侧壁的表面掺杂方法及半导体器件，所述掺杂方法包括：提供一半导体衬底，所述半导体衬底中具有沟槽；基于所述沟槽形成扩散掺杂区域，所述沟槽的至少部分侧壁具有所述扩散掺杂区域；其中，位于所述沟槽侧壁的所述扩散掺杂区域的掺杂浓度沿着所述沟槽深度方向保持不变。应用本发明提供的技术方案，基于半导体衬底上的沟槽形成扩散掺杂区域，相对于传统离子注入方式，在沿半导体衬底厚度的方向上，能够形成掺杂浓度保持不变的扩散掺杂区域。 | ||
| 搜索关键词： | 沟槽 侧壁 表面 掺杂 方法 半导体器件 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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