[发明专利]溢出式凸块封装结构及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202111132604.8 申请日: 2021-09-27
公开(公告)号: CN113594122B 公开(公告)日: 2021-12-21
发明(设计)人: 何正鸿;徐玉鹏;钟磊;李利 申请(专利权)人: 甬矽电子(宁波)股份有限公司
主分类号: H01L23/488 分类号: H01L23/488;H01L23/31;H01L21/60;H01L21/56
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 梁晓婷
地址: 315400 浙江省宁*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明的实施例提供了一种溢出式凸块封装结构及其制备方法,涉及半导体封装技术领域,该溢出式凸块封装结构包括基底芯片、布线组合层、金属凸块、第一介质层、导电胶膜层和第二介质层,第一介质层包覆在金属凸块周围,能够起到保护金属凸块免受水汽、离子污染、辐射或其他不利的环境,对金属凸块起到缓冲保护的作用。通过设置导电胶膜层,在实际热压焊时,导电胶膜层能够起到缓冲作用,避免应力影响导致的UBM以及RDL布线隐裂的问题,提升了器件的可靠性。并且导电胶膜层在受到压力后挤压至凹槽开口内,通过热压焊实现焊接,由于凹槽开口的容置作用,能够避免导电胶膜材料大量溢出至外部而导致桥接的问题。
搜索关键词: 溢出 式凸块 封装 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
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