[发明专利]高密发光二极管芯片及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202111029322.5 申请日: 2021-09-01
公开(公告)号: CN113990891A 公开(公告)日: 2022-01-28
发明(设计)人: 兰叶;王江波;朱广敏;李鹏;王逢祥;赵世彬;陈书林 申请(专利权)人: 华灿光电(浙江)有限公司
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15;H01L33/00;H01L33/44
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 吕耀萍
地址: 322000 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开提供了一种高密发光二极管芯片及其制造方法,属于半导体技术领域。所述高密发光二极管芯片包括透明基板、以及依次层叠在所述透明基板上的蓝光外延层、绿光外延层和红光外延层,所述蓝光外延层、所述绿光外延层和所述红光外延层依次键合,且所述蓝光外延层、所述绿光外延层和所述红光外延层上均具有N型电极和P型电极;所述蓝光外延层和所述绿光外延层之间具有一层第一滤光层,所述第一滤光层用于阻挡蓝光,所述绿光外延层和所述红光外延层之间具有一层第二滤光层,所述第二滤光层用于阻挡蓝光和绿光。采用芯片可以显著缩小像素单元的面积,提高LED的适用性。
搜索关键词: 高密 发光二极管 芯片 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华灿光电(浙江)有限公司,未经华灿光电(浙江)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111029322.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top