[发明专利]清洁装置及半导体结构的制作系统在审
| 申请号： | 202110952907.8 | 申请日： | 2021-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN115707524A | 公开（公告）日： | 2023-02-21 |
| 发明（设计）人： | 郑分成 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | B08B1/04 | 分类号： | B08B1/04;B08B1/00;B08B3/02;B08B13/00;H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 黄溪;刘芳 |
| 地址： | 230011 安徽省合肥*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本申请提供一种清洁装置及半导体结构的制作系统，涉及半导体技术领域，解决静电吸盘与晶圆之间的吸附效果差的技术问题，该清洁装置包括清洁组件，清洁组件包括喷淋单元和清洁单元；其中，喷淋单元用于对静电吸盘喷出清洁介质；清洁单元用于对静电吸盘进行清扫。该半导体结构的制作系统包括上述清洁装置。本申请用于对静电吸盘进行清洗，从而提高晶圆与静电吸盘表面的吸附效果，进而提高晶圆的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 装置 半导体 结构 制作 系统 | ||
【主权项】：
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