[发明专利]清洁装置及半导体结构的制作系统

权利要求书

1.一种清洁装置，用于对反应腔室内的静电吸盘进行清洁，其特征在于，包括：

清洁组件，所述清洁组件包括喷淋单元和清洁单元；其中，

所述喷淋单元用于对所述静电吸盘喷出清洁介质；

所述清洁单元用于对所述静电吸盘进行清扫。

2.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁单元包括驱动器和可移动的清洁元件，所述驱动器的输出端连接于所述清洁元件，以驱使所述清洁元件对所述静电吸盘表面进行清扫。

3.根据权利要求2所述的清洁装置，其特征在于，所述驱动器包括驱动电机，所述驱动电机的输出轴和所述清洁元件连接，以带动所述清洁元件在所述静电吸盘表面旋转清扫。

4.根据权利要求2-3中任一项所述的清洁装置，其特征在于，所述喷淋单元包括喷淋头、连接管道和储藏容器，所述连接管道连接于所述喷淋头和所述储藏容器之间。

5.根据权利要求4所述的清洁装置，其特征在于，所述储藏容器包括容置有清洁液的清洁液储液罐和容置有清洁空气的清洁空气罐中的至少一者；

所述清洁元件包括清洁刷或清洁盘中的至少一者。

6.根据权利要求5所述的清洁装置，其特征在于，所述储藏容器包括清洁液储液罐和清洁空气罐；

所述连接管道包括第一支管和第二支管，所述第一支管连通于所述清洁液储液罐和所述喷淋头之间，所述第二支管连通于所述清洁空气罐和所述喷淋头之间。

7.根据权利要求6所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁装置还包括液体驱动单元，所述液体驱动单元设置于所述清洁液储液罐中或者所述第一支管中，用于将所述清洁液储液罐中的所述清洁液驱动至所述喷淋头以进行喷淋。

8.根据权利要求6所述的清洁装置，其特征在于，所述第二支管上设置有第一过滤件。

9.根据权利要求7所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁装置还包括抽取单元和回收管道，所述抽取单元连通于所述静电吸盘表面，所述回收管道连通在所述抽取单元和所述清洁液储液罐之间，以将清洁后的所述清洁介质回收至所述清洁液储液罐。

10.根据权利要求9所述的清洁装置，其特征在于，所述回收管道中设置有液体成分检测件，所述液体成分检测件用于检测回收的所述清洁介质中杂质的含量，以确定所述静电吸盘是否清洁干净。

11.根据权利要求10所述的清洁装置，其特征在于，还包括控制器，所述控制器和所述液体成分检测件电连接，用于根据所述杂质的含量控制所述清洁组件运行。

12.根据权利要求11所述的清洁装置，其特征在于，在所述第一支管和所述第二支管的交汇处设置电磁阀。

13.根据权利要求12所述的清洁装置，其特征在于，所述电磁阀与所述控制器电连接，当对所述静电吸盘进行清洁时，所述控制器控制所述电磁阀通过所述第一支管连通所述清洁液储液罐和所述喷淋头；

当所述静电吸盘清洁干净时，所述控制器控制所述电磁阀通过所述第二支管连通所述清洁空气罐和所述喷淋头。

14.根据权利要求9所述的清洁装置，其特征在于，所述回收管道中设置有第二过滤件，所述第二过滤件用于过滤所述清洁介质中的杂质。

15.根据权利要求4所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁装置还包括用于支撑所述静电吸盘的支撑台，所述支撑台具有贯穿所述支撑台顶底两侧的镂空结构；所述喷淋头位于所述支撑台下方，以通过所述镂空结构向所述静电吸盘喷出清洁介质。