[发明专利]一种栅极电阻可调的MOSFET及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110854761.3 申请日: 2021-07-28
公开(公告)号: CN113659003A 公开(公告)日: 2021-11-16
发明(设计)人: 李加洋;吴磊;胡兴正;薛璐;刘海波 申请(专利权)人: 滁州华瑞微电子科技有限公司
主分类号: H01L29/423 分类号: H01L29/423;H01L29/06;H01L29/78;H01L21/336
代理公司: 南京中擎科智知识产权代理事务所(普通合伙) 32549 代理人: 黄智明
地址: 210000 江苏省南京市浦口区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及MOSFET领域,公开了一种栅极电阻可调的MOSFET及其制备方法,其技术方案要点是在MOSFET的栅极区域配置有可调电阻结构,所述可调电阻结构包括分别连接在栅极Poly引出端和栅极Pad之间的若干poly条组,所述poly条组包括至少一个poly条,所述poly条的本体至少包括一段粗条部和一段细条部,同处于一个poly条组中的所有poly条的粗条部之间电连接,所述粗条部与表面金属连接。
搜索关键词: 一种 栅极 电阻 可调 mosfet 及其 制备 方法
【主权项】:
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