[发明专利]图像传感器的制作方法

摘要

本申请公开了一种图像传感器的制作方法，包括：在衬底上覆盖光阻，使目标区域暴露，目标区域包括第一目标区域和第二目标区域，第一目标区域是源跟随晶体管、复位晶体管和行选通晶体管两两之间的区域，第二目标区域是逻辑器件的有源区之间的区域；进行刻蚀，刻蚀至第一目标深度，在目标区域形成第一沟槽；在像素单元区域覆盖光阻；进行刻蚀，将第二目标区域的第一沟槽向下刻蚀至第二目标深度，形成第二沟槽；沉积硅氧化物，硅氧化物填充第一沟槽和第二沟槽；去除光阻，第一沟槽中的硅氧化物形成第一STI结构，第二沟槽中的硅氧化物形成第二STI结构。本申请通过在像素单元器件和逻辑器件之间形成STI结构，改善了了器件的漏电现象。