[发明专利]在半导体样本中的阵列的识别在审
| 申请号： | 202110671133.1 | 申请日： | 2021-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN113919276A | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | Y·科恩;R·比斯特里泽 | 申请（专利权）人： | 应用材料以色列公司 |
| 主分类号： | G06F30/392 | 分类号： | G06F30/392;G06F30/398 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 侯颖媖;张鑫 |
| 地址： | 以色列瑞*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了一种方法和一种系统，所述方法和所述系统被配置为：获得半导体样本的图像，所述半导体样本包括：一个或多个阵列，每个阵列包括重复结构元素；以及一个或多个区，每个区至少部分地包围对应阵列并且包括与重复结构元素不同的特征，其中PMC被配置为在半导体样本的运行时扫描期间：在图像的像素强度与提供重复结构元素中的至少一者的信息的参考图像的像素强度之间执行相关分析，以获得相关矩阵；使用相关矩阵来区分与一个或多个阵列相对应的图像的一个或多个第一区域和与一个或多个区相对应的图像的一个或多个第二区域；以及输出提供图像的一个或多个第一区域的信息的数据。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 样本 中的 阵列 识别 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料以色列公司，未经应用材料以色列公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110671133.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：电热装置及其快速认证方法、相关设备
- 下一篇：光传感器以及测距方法
