[发明专利]在半导体样本中的阵列的识别

权利要求书

1.一种用于检验半导体样本的系统，所述系统包括处理器和存储器电路系统(PMC)，所述处理器和存储器电路系统(PMC)被配置为：

获得所述半导体样本的图像，所述半导体样本包括：

一个或多个阵列，每个阵列包括重复结构元素；

一个或多个区，每个区至少部分地包围对应阵列并且包括与所述重复结构元素不同的特征；

其中所述PMC被配置为在所述半导体样本的运行时扫描期间：

在所述图像的像素强度与提供所述重复结构元素中的至少一者的信息的参考图像的像素强度之间执行相关分析，以得到相关矩阵，

使用所述相关矩阵来区分与所述一个或多个阵列相对应的所述图像的一个或多个第一区域和与所述一个或多个区相对应的所述图像的一个或多个第二区域，以及

输出提供所述图像的所述一个或多个第一区域的信息的数据。

2.如权利要求1所述的系统，所述系统被配置为：

确定与满足振幅标准的所述相关矩阵的值相对应的所述图像的子区域，

基于提供在所述阵列中的所述重复结构元素之间的距离的信息的数据来将所述子区域聚类为一个或多个群集，以及

至少基于所述一个或多个群集来确定所述一个或多个第一区域。

3.如权利要求1所述的系统，其中所述一个或多个阵列由一个或多个边界与所述一个或多个区分隔，其中所述系统被配置为估计仅包括直至所述边界的所述至少一个或多个阵列的所述图像的所述一个或多个第一区域。

4.如权利要求1所述的系统，所述系统被配置为对所述参考图像应用图像处理，其中所述图像处理衰减所述参考图像的重复图案。

5.如权利要求1所述的系统，所述系统被配置为：

基于提供沿着第一轴线在所述阵列中的所述重复结构元素之间的距离的信息的数据来将所述子区域聚类为一个或多个第一群集，

基于提供沿着第二轴线在所述阵列中的所述重复结构元素之间的距离的信息的数据来将所述子区域聚类为一个或多个第二群集，以及

使用所述第一群集和所述第二群集来区分与所述一个或多个阵列相对应的所述图像的一个或多个第一区域和与所述一个或多个区相对应的所述图像的一个或多个第二区域。

6.如权利要求2所述的系统，所述系统对于每个群集被配置为：

-确定包围一个或多个群集的多边形，以及

-将所述多边形输出为所述图像的第一区域。

7.如权利要求2所述的系统，所述系统被配置为仅选择子区域的数量满足阈值的群集。

8.如权利要求2所述的系统，所述系统被配置为在所述半导体样本的运行时检验之前的设置阶段中获得提供所述振幅标准的信息的数据。

9.如权利要求1所述的系统，所述系统被配置为：

在所述图像的所述一个或多个第一区域的像素强度与提供所述重复结构元素中的至少一者的信息的第二参考图像的像素强度之间执行相关分析，以得到第二相关矩阵，

确定与满足振幅标准的所述第二相关矩阵的值相对应的所述图像的所述一个或多个第一区域的子区域，

至少基于在所述图像的所述一个或多个第一区域中的所述子区域的位置和提供在所述阵列中的所述重复结构元素的预期位置的信息的数据来确定在所述图像的所述一个或多个第一区域与所述阵列之间的形变图，以及

基于所述形变图来生成校正图像。

10.如权利要求9所述的系统，所述系统被配置为生成所述校正图像，使得在所述校正图像中的所述子区域的位置和提供在所述阵列中的所述重复结构元素的期望位置的信息的数据满足接近度标准。