[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 202110550581.6 申请日: 2021-05-20
公开(公告)号: CN114171525A 公开(公告)日: 2022-03-11
发明(设计)人: 沓掛弘之 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: H01L27/11519 分类号: H01L27/11519;H01L27/11524;H01L27/11551;H01L27/11565;H01L27/1157;H01L27/11578;H01L27/11573;H01L27/11529
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 杨林勳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 实施方式提供一种能够在衬底内高密度地配置多个有源区域的半导体装置。根据一实施方式,半导体装置具备设置在衬底内的多个有源区域,第1、第2、第3、及第4有源区域分别包含中央部分、所述中央部分的第1方向上的第1部分、所述第1部分的相反侧的第2部分、所述中央部分的第2方向上的第3部分、及所述第3部分的相反侧的第4部分。进而,所述第1有源区域的所述第1部分的端部与所述第4有源区域的所述第4部分的侧部对向,所述第2有源区域的所述第2部分的端部与所述第3有源区域的所述第3部分的侧部对向,所述第3有源区域的所述第3部分的端部与所述第1有源区域的所述第1部分的侧部对向,所述第4有源区域的所述第4部分的端部与所述第2有源区域的所述第2部分的侧部对向。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
暂无信息
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