[发明专利]一种提升氮化铝单晶生长中块体材料挥发量的填充方法有效

专利信息
申请号: 202110515641.0 申请日: 2021-05-12
公开(公告)号: CN113215655B 公开(公告)日: 2023-01-31
发明(设计)人: 张丽;赖占平;齐海涛;程红娟;李宝珠;陈建丽;王增华;史月增 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十六研究所
主分类号: C30B23/00 分类号: C30B23/00;C30B29/40
代理公司: 天津中环专利商标代理有限公司 12105 代理人: 李美英
地址: 300220*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种提升氮化铝单晶生长中块体材料挥发量的填充方法,将多个中空薄壁圆筒按照从大到小的顺序依次放置在粉料烧结钨坩埚底部的卡槽内,钨坩埚与中空薄壁圆筒同轴,两种粒径的氮化铝粉料由外向内依次填充于两个中空薄壁圆筒之间的区域,添置的顺序为大粒径‑小粒径‑大粒径‑小粒径,直至填满整个钨坩埚内腔;从外向内依次取出所有的中空薄壁圆筒,经常规烧结后获得氮化铝块体材料。本发明利用了不同粒径AlN粉体具有不同烧结动力和团聚速率的特性,在烧结后不同粒径AlN粉体的界面处形成了大量通道,从而有助于提升氮化铝单晶生长中的原料挥发量和气体扩散量,进而提升晶体的生长速率,有效节约了生长时间和降低生长成本。
搜索关键词: 一种 提升 氮化 铝单晶 生长 块体 材料 挥发 填充 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第四十六研究所,未经中国电子科技集团公司第四十六研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110515641.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top