[发明专利]垂直存储器装置在审

专利信息
申请号: 202110356466.5 申请日: 2021-04-01
公开(公告)号: CN113764425A 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 白石千 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/11519 分类号: H01L27/11519;H01L27/11524;H01L27/11556;H01L27/11565;H01L27/1157;H01L27/11582
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 刘林果;陈亚男
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了垂直存储器装置。所述垂直存储器装置包括:第一栅电极结构,位于第一基底上,第一栅电极结构包括沿第一方向彼此间隔开且以阶梯形状堆叠的第一栅电极;第二栅电极结构,位于第一栅电极结构上,并且包括沿第一方向彼此间隔开且以阶梯形状堆叠的第二栅电极;沟道,延伸穿过第一栅电极结构和第二栅电极结构;以及接触插塞,沿第一方向延伸穿过第一栅电极结构和第二栅电极结构,其中,位于第二栅电极的端部处的第二台阶与位于第一栅电极的端部处的第一台阶叠置,其中,接触插塞延伸穿过至少一个第一台阶并穿过至少一个第二台阶,同时仅电连接到第一台阶或仅电连接到第二台阶。
搜索关键词: 垂直 存储器 装置
【主权项】:
暂无信息
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