[发明专利]清扫装置和半导体制造系统在审
| 申请号： | 202110307176.1 | 申请日： | 2021-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN113458095A | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | 宇都宫由典;赤田光 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | B08B9/035 | 分类号： | B08B9/035 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;刘芃茜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供能够实现清扫作业的缩短化和自动化的清扫装置和半导体制造系统。用于清扫半导体制造装置(2)的对象面的自主移动式的清扫装置(3)包括：主体(31)；吸附部(34)，其构成为在对象面为倾斜面的情况下，能够使主体(31)吸附在倾斜面；行驶部(33)，其构成为在主体(31)通过吸附部(34)被吸附于倾斜面的状态下能够使主体沿倾斜面行驶，并且包含设置于比主体靠行进方向前方处的履带；吸引部(32)，其吸引对象面的周边的气体；检测部，其检测(31)主体的周围的状况；以及控制部(38)，其基于检测部的检测结果控制行驶部(33)和吸附部(34)。 | ||
| 搜索关键词： | 清扫 装置 半导体 制造 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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