[发明专利]清扫装置和半导体制造系统

权利要求书

1.一种用于清扫半导体制造装置的对象面的自主移动式的清扫装置，其特征在于，包括：

主体；

吸附部，其构成为在所述对象面为倾斜面的情况下，能够使所述主体吸附在所述倾斜面；

行驶部，其构成为在所述主体通过所述吸附部被吸附于所述倾斜面的状态下能够使所述主体沿所述倾斜面行驶，并且包含设置于比所述主体靠行进方向前方处的履带；

吸引部，其吸引所述对象面的周边的气体；

检测部，其检测所述主体的周围的状况；以及

控制部，其基于所述检测部的检测结果控制所述行驶部和所述吸附部。

2.如权利要求1所述的清扫装置，其特征在于：

所述对象面包括水平面和倾斜面，

所述行驶部能够在所述水平面与所述倾斜面之间移动。

3.如权利要求1或2所述的清扫装置，其特征在于：

所述检测部包括：

摄像机，其拍摄所述主体的周围的状况；和

传感器，其检测所述主体与其周围的物体的距离。

4.如权利要求1或2所述的清扫装置，其特征在于：

在所述倾斜面上行驶时，所述吸附部的吸入口向所述倾斜面突出，使所述主体吸附在所述倾斜面。

5.一种半导体制造系统，其特征在于，包括：

半导体制造装置；和

权利要求1～4中任一项所述的清扫装置。

6.如权利要求5所述的半导体制造系统，其特征在于：

还包括设置于所述半导体制造装置的壁面的保持部，

所述保持部构成为能够保持所述清扫装置，并且构成为能够对所述清扫装置供给电能。