[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 202110208949.0 申请日: 2021-02-24
公开(公告)号: CN113471191A 公开(公告)日: 2021-10-01
发明(设计)人: 俞炫圭;柳志秀;朴在浩 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L23/528
代理公司: 北京市立方律师事务所 11330 代理人: 李娜;王占杰
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供一种半导体装置。所述半导体装置包括在第一方向上彼此相邻的第一单元区域和填充区域。所述半导体装置包括:有源图案,在所述第一单元区域内部在所述第一方向上延伸;栅电极,在所述有源图案上在与所述第一方向相交的第二方向上延伸;栅极接触,电连接到所述栅电极的上表面;源极/漏极接触,电连接到所述有源图案的源极/漏极区,所述源极/漏极接触与所述栅电极的一侧相邻;连接线路,在所述第一单元区域和所述填充区域上方在所述第一方向上延伸,并且电连接到所述栅极接触或所述源极/漏极接触中的一者;和填充线路,位于所述填充区域内部。还提供一种相关的布图设计方法以及制造方法。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
暂无信息
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