[发明专利]光场显示装置的制作方法以及光场显示装置在审
| 申请号： | 202110060930.6 | 申请日： | 2021-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN114815299A | 公开（公告）日： | 2022-07-29 |
| 发明（设计）人： | 郭康;宋梦亚;李多辉;谷新;张锋;王美丽;王飞;顾仁权;姚琪;袁广才;董学;于静 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B30/36 | 分类号： | G02B30/36 |
| 代理公司： | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人： | 张帆 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光场显示装置的制作方法以及光场显示装置，其中光场显示装置的制作方法包括：在衬底上形成平凹透镜层，所述平凹透镜层包括阵列排布的多个平凹透镜和多个设置在预设位置的对位标记；在所述平凹透镜层上形成覆盖其的第一平坦化层以形成微透镜阵列，所述第一平坦化层的折射率大于所述平凹透镜层的折射率；根据所述对位标记将显示面板的出光侧贴合在所述微透镜阵列远离所述衬底的一侧。本发明提供的光场显示装置的制作方法以自上而下的方式通过在衬底上形成平凹透镜层并在平凹透镜层上形成第一平坦化层形成微透镜阵列，并利用平凹透镜层中包括的对位标记与显示面板对位，使得透镜形成过程中材料填充充分，与显示面板实现精确对位。 | ||
| 搜索关键词： | 显示装置 制作方法 以及 | ||
【主权项】：
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