[发明专利]光场显示装置的制作方法以及光场显示装置

说明书

本发明公开了一种光场显示装置的制作方法以及光场显示装置，其中光场显示装置的制作方法包括：在衬底上形成平凹透镜层，所述平凹透镜层包括阵列排布的多个平凹透镜和多个设置在预设位置的对位标记；在所述平凹透镜层上形成覆盖其的第一平坦化层以形成微透镜阵列，所述第一平坦化层的折射率大于所述平凹透镜层的折射率；根据所述对位标记将显示面板的出光侧贴合在所述微透镜阵列远离所述衬底的一侧。本发明提供的光场显示装置的制作方法以自上而下的方式通过在衬底上形成平凹透镜层并在平凹透镜层上形成第一平坦化层形成微透镜阵列，并利用平凹透镜层中包括的对位标记与显示面板对位，使得透镜形成过程中材料填充充分，与显示面板实现精确对位。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种光场显示装置的制作方法以及光场显示装置。

背景技术

在裸眼3D或光场显示技术中，目前主要采用纳米压印技术进行微透镜基板的制作，这种方法需要先进行微透镜(MLA)模板制作，制作MLA模板有采用单点金刚石和光刻热回流两种方式。其中，采用单点金刚石进行MLA模版的过程中，存在成本高、难以大尺寸化等问题。光刻热回流具有低成本、大尺寸化的优点，而热回流方式难以实现密接型透镜(lens)的制作，但是可以在透镜之间增加遮光层实现密接型透镜的效果。

发明内容

为了解决上述问题至少之一，本发明第一个方面提供一种光场显示装置的制作方法，包括：

在衬底上形成平凹透镜层，平凹透镜层包括阵列排布的多个平凹透镜和多个设置在预设位置的对位标记；

在平凹透镜层上形成覆盖其的第一平坦化层以形成微透镜阵列，第一平坦化层的折射率大于平凹透镜层的折射率；

根据对位标记将显示面板的出光侧贴合在微透镜阵列远离衬底的一侧。

在一些可选的实施例中，平凹透镜层还包括设置在相邻两个平凹透镜之间的间隔部，在平凹透镜层上形成覆盖其的第一平坦化层以形成微透镜阵列进一步包括：

根据对位标记在第一平坦化层上形成多个遮光部，遮光部在衬底上的正投影覆盖间隔部在衬底上的正投影；

在遮光部和露出的第一平坦化层上形成覆盖遮光部和第一平坦化层的第二平坦化层以形成微透镜阵列。

在一些可选的实施例中，根据对位标记将显示面板的出光侧贴合在微透镜阵列远离衬底的一侧进一步包括：

根据对位标记，将显示面板的出光侧贴合在第二平坦化层远离衬底的一侧。

在一些可选的实施例中，根据对位标记在第一平坦化层上形成多个遮光部进一步包括：

在第一平坦化层上形成遮光层；

根据对位标记图案化遮光层形成多个遮光部。

在一些可选的实施例中，

间隔部的长度小于等于5μm；

和/或

遮光部为黑矩阵，遮光部的长度大于等于间隔部的长度且小于等于10μm，遮光部的厚度大于等于1μm且小于等于3μm；

和/或

第二平坦化层的厚度大于等于2μm且小于等于5μm。

在一些可选的实施例中，在衬底上形成平凹透镜层，平凹透镜层包括阵列排布的多个平凹透镜和多个设置在预设位置的对位标记进一步包括：

在衬底上涂覆纳米压印胶形成压印胶层；

利用预设置的纳米压印模板压印压印胶层形成平凹透镜层，纳米压印模板包括阵列排布的多个凸透镜和多个设置在预设位置的对位标记。

在一些可选的实施例中，