[发明专利]光场显示装置的制作方法以及光场显示装置

权利要求书

1.一种光场显示装置的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底上形成平凹透镜层，所述平凹透镜层包括阵列排布的多个平凹透镜和多个设置在预设位置的对位标记；

在所述平凹透镜层上形成覆盖其的第一平坦化层以形成微透镜阵列，所述第一平坦化层的折射率大于所述平凹透镜层的折射率；

根据所述对位标记将显示面板的出光侧贴合在所述微透镜阵列远离所述衬底的一侧。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述平凹透镜层还包括设置在相邻两个平凹透镜之间的间隔部，所述在所述平凹透镜层上形成覆盖其的第一平坦化层以形成微透镜阵列进一步包括：

根据所述对位标记在所述第一平坦化层上形成多个遮光部，所述遮光部在所述衬底上的正投影覆盖所述间隔部在所述衬底上的正投影；

在所述遮光部和露出的第一平坦化层上形成覆盖所述遮光部和第一平坦化层的第二平坦化层以形成微透镜阵列。

3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述根据所述对位标记将显示面板的出光侧贴合在所述微透镜阵列远离所述衬底的一侧进一步包括：

根据所述对位标记，将显示面板的出光侧贴合在所述第二平坦化层远离所述衬底的一侧。

4.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述根据所述对位标记在所述第一平坦化层上形成多个遮光部进一步包括：

在所述第一平坦化层上形成遮光层；

根据所述对位标记图案化所述遮光层形成多个遮光部。

5.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，

所述间隔部的长度小于等于5μm；

和/或

所述遮光部为黑矩阵，所述遮光部的长度大于等于所述间隔部的长度且小于等于10μm，所述遮光部的厚度大于等于1μm且小于等于3μm；

和/或

所述第二平坦化层的厚度大于等于2μm且小于等于5μm。

6.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述在衬底上形成平凹透镜层，所述平凹透镜层包括阵列排布的多个平凹透镜和多个设置在预设位置的对位标记进一步包括：

在所述衬底上涂覆纳米压印胶形成压印胶层；

利用预设置的纳米压印模板压印所述压印胶层形成平凹透镜层，所述纳米压印模板包括阵列排布的多个凸透镜和多个设置在预设位置的对位标记。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的制作方法，其特征在于，

所述平凹透镜的口径大于等于5μm且小于等于500μm，所述平凹透镜的拱高大于等于2μm且小于等于50μm；

和/或

所述平凹透镜层的厚度大于等于5μm且小于等于50μm，所述平凹透镜层的折射率大于等于1.3且小于等于1.45，所述平凹透镜层的透过率大于80％；

和/或

所述第一平坦化层的厚度大于等于5μm且小于等于50μm，所述第一平坦化层的折射率大于等于1.55且小于等于1.75，所述第一平坦化层的透过率大于80％。

8.一种利用权利要求1-7中任一项所述的制作方法制作的光场显示装置，其特征在于，包括显示面板和设置在显示面板出光侧的微透镜阵列，所述微透镜阵列包括衬底，依次设置在所述衬底上距离所述显示面板由远及近的平凹透镜层和第一平坦化层，所述平凹透镜层包括阵列排布的多个平凹透镜和多个设置在预设位置的对位标记，所述第一平坦化层的折射率大于所述平凹透镜层的折射率。

9.根据权利要求8所述的光场显示装置，其特征在于，所述微透镜阵列的平凹透镜层还包括设置在相邻两个平凹透镜之间的间隔部，所述微透镜阵列还包括设置在所述第一平坦化层上的遮光部、以及覆盖所述遮光部和露出的第一平坦化层的第二平坦化层，所述遮光部在所述衬底上的正投影覆盖所述间隔部在所述衬底上的正投影。

10.根据权利要求8或9所述的光场显示装置，其特征在于，所述显示面板为液晶显示面板、电致发光显示面板、量子点发光显示面板、微LED显示面板、Micro LED显示面板和MiniLED显示面板中的一个。