[发明专利]气体流量调节装置和半导体加工设备在审

专利信息
申请号: 202110060548.5 申请日: 2021-01-18
公开(公告)号: CN112768380A 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 杨蕾;陈正堂 申请(专利权)人: 北京七星华创流量计有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;王婷
地址: 100176 北京市北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种气体流量调节装置和半导体加工设备,该气体流量调节装置包括:底座结构,在底座结构中设置有气体通道;活塞部件,可移动地设置在底座结构中,用以通过在指定方向上移动来调节气体通道的通气截面面积;旋转驱动源的驱动轴包括位于旋转驱动源外部的连接部分;以及传动结构,其旋转件与驱动轴的连接部分连接,且与移动件螺纹连接,限位组件与移动件连接,用以在旋转件随驱动轴旋转时,限制移动件旋转,以使移动件能够相对于旋转件沿指定方向移动;移动件与活塞部件连接。本发明提供的气体流量调节装置和半导体加工设备,无需对电机要求较高的精度,从而可以降低设备成本,而且可以简化拆卸、调试过程,从而可以提高工作效率。
搜索关键词: 气体 流量 调节 装置 半导体 加工 设备
【主权项】:
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