[实用新型]一种用于生长大尺寸碳化硅单晶的坩埚有效

专利信息
申请号: 202021742009.7 申请日: 2020-08-20
公开(公告)号: CN213172678U 公开(公告)日: 2021-05-11
发明(设计)人: 杨祥龙;徐现刚;王垚浩;胡小波;陈秀芳 申请(专利权)人: 广州南砂晶圆半导体技术有限公司
主分类号: C30B23/00 分类号: C30B23/00;C30B29/36
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 511458 广东省广州市南*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请提供了一种用于生长大尺寸碳化硅单晶的坩埚,通过将坩埚体分为上坩埚体和下坩埚体两部分结构,并且,设置坩埚盖扣合在上坩埚体的顶部,上坩埚体的底部与下坩埚体的顶部连接;下坩埚体的电阻率小于上坩埚体的电阻率,上坩埚体的电阻率小于或等于坩埚盖的电阻率。在碳化硅单晶生长时,由于下坩埚体的石墨电阻率低于上坩埚体的石墨电阻率,相应的下坩埚体的坩埚壁交变电流要比上坩埚体大,加热效率高,使得与之接触的碳化硅多晶粉料温度高;上坩埚体以及坩埚盖的石墨电阻率高于下坩埚体的石墨电阻率,相应的其产生的交变电流相对小,使得碳化硅籽晶区域温度低。这样,可以从坩埚体底部到顶部方向,营造轴向温度梯度,满足晶体生长速率要求。
搜索关键词: 一种 用于 生长 尺寸 碳化硅 坩埚
【主权项】:
暂无信息
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