[发明专利]一种2D图形显示方法在审

专利信息
申请号: 202011639441.8 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112668274A 公开(公告)日: 2021-04-16
发明(设计)人: 蒋历国;凌峰;罗彬;代文亮 申请(专利权)人: 芯和半导体科技(上海)有限公司
主分类号: G06F30/392 分类号: G06F30/392;G06T11/20;G06T11/40;G06F115/06
代理公司: 上海乐泓专利代理事务所(普通合伙) 31385 代理人: 苏杰
地址: 200000 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供的一种2D图形显示方法,包括如下步骤:步骤S1:提取版图文件中的二维坐标和层信息,形成二维图形数据结构;步骤S2:根据版图文件的层信息,创建多个画布,每个画布通过主图形数据集和若干子图形数据集归类存储几何图元;步骤S3:遍历版图,将步骤S1中的二维图形数据结构转换为自定义数据结构,将其加入步骤S2中的图形数据集的队列中;步骤S4:根据图元状态使用多线程技术绘制在步骤S3中收集的位于不同画布的不同图形数据集队列中的二维图形数据。本发明通过可分层绘制、局部刷新的2D图形显示方法,能够解决在Linux上高效显示超大规模芯片版图的问题,并提供方便的进行图形元素的拾取和快速高效的进行显示场景的刷新的方法。
搜索关键词: 一种 图形 显示 方法
【主权项】:
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