[发明专利]具有氧化中介层的半导体元件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011245299.9 申请日: 2020-11-10
公开(公告)号: CN112864159A 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 黄至伟 申请(专利权)人: 南亚科技股份有限公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L27/11521;H01L27/11568
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 谢强;黄艳
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开提供一种具有一氧化中介层的半导体元件及该半导体元件的制备方法。该半导体元件具有一基底、一存储单元以及一控制单元。该存储单元具有一存储单元导电层以及一横向氧化中介层,该存储单元导电层位于该基底上,该横向氧化中介层位于该存储单元导电层下。该控制单元位于该基底中,并位于该横向氧化中介层下。该横向氧化中介层具有一侧壁部以及一中心部,而相较于该中心部,该侧壁部具有一较高的氧浓度。
搜索关键词: 具有 氧化 中介 半导体 元件 及其 制备 方法
【主权项】:
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