[发明专利]半导体存储器元件在审

专利信息
申请号: 202011221820.5 申请日: 2020-11-05
公开(公告)号: CN114446974A 公开(公告)日: 2022-05-06
发明(设计)人: 陈自平 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司
主分类号: H01L27/11524 分类号: H01L27/11524;H01L27/11519;H01L29/788
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开一种半导体存储器元件,包含选择晶体管和浮动栅极晶体管,设置在基底上。选择晶体管包含选择栅极、选择栅极氧化层和漏极掺杂区。浮动栅极晶体管包含浮动栅极、浮动栅极氧化层、源极掺杂区、在浮动栅极下方的第一隧穿区掺杂、第二隧穿区掺杂、在第一隧穿区掺杂上的第一隧穿氧化层、在第二隧穿区掺杂上的第二隧穿氧化层。浮动栅极氧化层介于第一隧穿氧化层和第二隧穿氧化层之间。淡掺杂扩散区围绕源极掺杂区和第二隧穿区掺杂。
搜索关键词: 半导体 存储器 元件
【主权项】:
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