[发明专利]半导体装置的制造方法和半导体装置的制造装置有效

专利信息
申请号: 202011188068.9 申请日: 2020-10-30
公开(公告)号: CN113036026B 公开(公告)日: 2022-04-19
发明(设计)人: 立岩刚;平木和雄 申请(专利权)人: 株式会社铃木
主分类号: H01L33/62 分类号: H01L33/62;H01L25/075
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 徐丹;邓毅
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 半导体装置的制造方法和半导体装置的制造装置。提供如下的半导体装置的制造装置:使经由具有导电粒子和热固性粘接剂的各向异性导电胶将多个半导体芯片搭载于基板而成的工件成为可通电状态且可返工状态,由此,能够飞跃性地提高产量。半导体装置的制造装置(1)构成为具有对工件(90)进行加热处理的第1回流炉(3)以及控制部(2),第1回流炉构成为,从入口侧一直到加热区(3b)设置有第1输送机(31),接着,从冷却区(3c)一直到出口侧设置有第2输送机(32),控制部针对第1输送机和第2输送机进行如下控制:将工件搬运到加热区而使焊料熔融,接着,将工件搬运到冷却区而使焊料固化,使工件成为可通电且可返工的状态。
搜索关键词: 半导体 装置 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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