[发明专利]半导体存储器装置在审

专利信息
申请号: 202011029630.3 申请日: 2020-09-27
公开(公告)号: CN112750831A 公开(公告)日: 2021-05-04
发明(设计)人: 朴光浩;金哉勳;孙龙勳;郑承宰 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 刘林果;陈亚男
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供了一种半导体存储器装置。所述半导体存储器装置包括:第一‑第一导线,位于基底上;第二‑第一导线,位于第一‑第一导线上;第一接触件,连接到第一‑第一导线;以及第二接触件,连接到第二‑第一导线,其中,第一‑第一导线在第一方向上突出超过第二‑第一导线,第一‑第一导线包括具有第一厚度的第一区域、具有第二厚度的第二区域和具有第三厚度的第三区域,第二厚度比第一厚度大,第三厚度比第一厚度小且比第二厚度小,并且第一‑第一导线的第二区域在第一‑第一导线的第一区域与第一‑第一导线的第三区域之间。
搜索关键词: 半导体 存储器 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011029630.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top