[发明专利]一种基于III-V族窄禁带半导体的磁随机存储器有效

专利信息
申请号: 202010962769.7 申请日: 2020-09-14
公开(公告)号: CN112054116B 公开(公告)日: 2023-03-21
发明(设计)人: 寇煦丰;孙璐;张勇;薛丰铧 申请(专利权)人: 上海科技大学
主分类号: H10N50/10 分类号: H10N50/10;H10N50/85;H10N50/20;H10B61/00
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 31001 代理人: 徐俊
地址: 201210 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种基于III‑V族窄禁带半导体的磁随机存储器,其特征在于,由下至上依次包括衬底晶圆、介电层、自旋轨道力矩作用层及MTJ结构层,介电层采用碲化镉CdTe或者碲化锌ZnTe材料;自旋轨道力矩作用层采用高迁移率的III‑V族窄禁带半导体锑化铟InSb或砷化铟InAs。本发明的基于III‑V族半导体材料的结构不仅能够现有的半导体CMOS工艺相匹配,还可以提供比传统重金属SOT材料更高的自旋轨道耦合强度,从而有效地降低器件写入电流的功耗问题。此外,通过施加背栅电压可以实现对自旋轨道耦合强度的调控,进而进一步改善器件的功耗。并且通过电场控制,能够增加改型器件阵列的可编程与存算一体化能力。
搜索关键词: 一种 基于 iii 族窄禁带 半导体 随机 存储器
【主权项】:
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