[发明专利]一种掩膜版及其制备方法以及蒸镀系统有效
| 申请号： | 202010760765.0 | 申请日： | 2020-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN111996488B | 公开（公告）日： | 2022-09-30 |
| 发明（设计）人： | 齐英旭;于上智 | 申请（专利权）人： | 云谷（固安）科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/00;H01L27/32 |
| 代理公司： | 广东君龙律师事务所 44470 | 代理人： | 丁建春 |
| 地址： | 065500 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜版及其制备方法以及蒸镀系统，其中，掩膜版包括：支撑部与掩膜版主体，支撑部位于掩膜版主体的一侧，掩膜版主体上设置有多个成阵列排布的掩膜区；支撑部包括多个开口区以及围绕开口区的第一边缘区，其中，多个开口区与多个掩膜区相互交叠，且一一对应，第一边缘区的部分边缘向其围绕的开口区延伸，并在各开口区内形成第一延伸部；第一延伸部与掩膜区固定连接；通过上述结构，本发明的掩膜版能够使第一延伸部与边缘区固定连接，来提高支撑部与掩膜版主体之间的贴合度，从而减小蒸镀阴影和混色不均良的现象发生，提高蒸镀良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版 及其 制备 方法 以及 系统 | ||
【主权项】：
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