[发明专利]一种掩膜版及其制备方法以及蒸镀系统

说明书

本发明公开了一种掩膜版及其制备方法以及蒸镀系统，其中，掩膜版包括：支撑部与掩膜版主体，支撑部位于掩膜版主体的一侧，掩膜版主体上设置有多个成阵列排布的掩膜区；支撑部包括多个开口区以及围绕开口区的第一边缘区，其中，多个开口区与多个掩膜区相互交叠，且一一对应，第一边缘区的部分边缘向其围绕的开口区延伸，并在各开口区内形成第一延伸部；第一延伸部与掩膜区固定连接；通过上述结构，本发明的掩膜版能够使第一延伸部与边缘区固定连接，来提高支撑部与掩膜版主体之间的贴合度，从而减小蒸镀阴影和混色不均良的现象发生，提高蒸镀良率。

技术领域

本发明涉及显示技术的技术领域，特别是涉及一种掩膜版及其制备方法以及蒸镀系统。

背景技术

AMOLED(Active-matrix organic light-emitting diode)有源矩阵有机发光二极体是一种显示屏技术。AMOLED显示屏技术与多数传统液晶显示器相比，具有更宽的视角、更高的刷新率和更薄的尺寸，因此正在多个显示屏相关的行业中得到一定的运用。

目前，AMOLED显示屏发光材料主要使用精细金属掩膜版蒸镀到显示基板上。蒸镀OLED屏幕所用的掩膜版由用于定义RGB(红绿蓝)子像素的精密金属掩膜版(FineMetalMask，FMM)和用于遮挡非蒸镀区和支撑FMM的支撑掩膜版(F-Mask)组成。在蒸镀过程中FMM被磁铁板吸附，与LTPS基板紧密贴合，支撑掩膜版(F-Mask)凸出的水滴部分(即异形边缘)与精密金属掩膜版(FMM)之间无法紧密贴合。而蒸镀过程中磁铁板强度不够，无法将水滴部分完全吸附起来，水滴部分虽然是具有磁性的Invar材料(因瓦合金)，但是也无法减小支撑掩膜版(F-Mask)凸出的水滴部分与精密金属掩膜版(FMM)之间的间隙。而贴合效果不好会直接导致蒸镀后中产生较大的shadow(阴影)甚至混色不均的现象，良率损失严重升高。

为了减少蒸镀过程中容易产生的shadow(阴影)现象，行业中通过将蒸镀基板与掩膜版直接近距离接触，且设备内利用磁场以及采用磁性材料制备水滴部分来提升掩膜版和蒸镀基板之间的紧密结合度，但仍然无法有效避免掩膜版由于下垂或上翘而引起的shadow(阴影)问题。

发明内容

本发明提供一种掩膜版及其制备方法以及蒸镀系统，以解决现有技术中存在的蒸镀混色现象严重，均一性差的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供了一种掩膜版，包括：支撑部与掩膜版主体，支撑部位于掩膜版主体的一侧，掩膜版主体上设置有多个成阵列排布的掩膜区；支撑部包括多个开口区以及围绕开口区的第一边缘区，其中，多个开口区与多个掩膜区相互交叠，且一一对应，第一边缘区的部分边缘向其围绕的开口区延伸，在各开口区内形成第一延伸部；第一延伸部与掩膜区固定连接。

其中，第一延伸部与掩膜区通过焊点实现焊接固定。

其中，焊点的形状为圆形，且圆形焊点的直径范围为180-230微米。

其中，掩膜版主体还包括围绕掩膜区的第二边缘区，第二边缘区的部分边缘向其围绕的掩膜区延伸，并在各掩膜区内形成第二延伸部，第一延伸部与第二延伸部固定连接。

其中，第一延伸部的材质包括具有磁性材料，用于与磁性板之间产生磁力，以通过磁力使第一延伸部及第二延伸部与磁性板之间吸附连接。

为解决上述技术问题，本发明还提供一种蒸镀系统，包括：磁性板、基板以及掩膜版，磁性板、基板以及掩膜版沿同一方向依次设置，其中，磁性板设置于基板一侧，掩膜版设置于基板的另一侧；其中，掩膜版包括如上述任一项的掩膜版。